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苏大维格5亿加码!收购半导体设备企业,加速光刻机国产替代进程

   时间:2025-09-02 15:44:44 来源:上海证券报编辑:快讯团队 IP:北京 发表评论无障碍通道
 

近期,苏大维格发布公告,计划通过现金收购方式,取得常州维普半导体设备有限公司不超过51%的股权,旨在实现对该公司的控股。这一战略举措标志着苏大维格在直写光刻领域迈出了重要一步。

作为国内微纳结构产品制造和技术服务的佼佼者,苏大维格及其子公司长期致力于高端微纳光学材料及反光材料制品的研发,成功自主研发出激光直写光刻机和纳米压印光刻机等关键制造设备。此次收购,苏大维格与常州维普的部分股东签署了《股权收购意向协议》,预计交易金额不超过5.10亿元,具体估值和定价将依据评估报告和正式收购协议确定。

值得注意的是,本次收购暂未涉及关联方红土一号基金及深创新资本,但未来若这些关联方参与收购,可能会构成关联交易。经过初步评估,此次交易并未构成重大资产重组。

从财务数据来看,苏大维格近年来业绩表现稳健。2025年上半年,公司实现营业收入9.82亿元,同比增长5.27%,尽管归母净利润同比下降10.46%,但经营活动产生的现金流量净额达到6758.99万元。而2024年全年,公司营业收入为18.41亿元,归母净利润亏损5805万元,但经营活动现金净流入2.05亿元。

常州维普作为江苏省专精特新“小巨人”企业,专注于光掩模缺陷检测设备和晶圆缺陷检测设备的研发、生产和销售,是国内少数在该领域实现规模化量产的企业。其产品和技术均具备自主知识产权,核心零部件实现国产化和自主可控,已进入国内外头部晶圆厂和掩膜版厂商的量产线。

光掩模作为微电子制造中的关键核心材料,其缺陷检测设备在半导体行业中扮演着至关重要的角色。然而,目前国内该领域设备国产率不足3%,国产替代空间巨大。苏大维格表示,此次收购常州维普,将有利于公司利用其在半导体检测领域的客户资源,减少客户开发成本和产品验证周期。

激光直写光刻机和掩模缺陷检测设备在核心部件构成上具有较高相似度,双方在技术上的互补性将显著提升苏大维格在直写光刻领域的研发实力。苏大维格在光学系统和精密运动控制平台方面拥有深厚积累,而常州维普则在核心算法、软件系统和电气电控系统等方面具备技术优势。此次交易后,双方将实现优势互补,加快产品迭代速度,提升设备竞争力,加速国产替代进程。

苏大维格一直致力于拓展激光直写光刻机在半导体掩模制造领域的量产应用和国产替代。此次收购常州维普,不仅有助于公司响应国家在集成电路领域的发展规划,还将为实现公司的战略目标提供有力支持。

 
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