【ITBEAR科技资讯】12月13日消息，本周二，三星电子董事长李在镕与SK集团董事长崔泰元前往荷兰参观ASML总部，并与ASML及韩国总统尹锡悦就半导体芯片联盟展开深入讨论。
当天晚些时候，ASML宣布与三星电子签署备忘录，双方将合资投资1万亿韩元(约合54.5亿元人民币)，在韩国建立研究中心，致力于研究下一代极紫外(EUV)光刻机，以推动超精细半导体制造工艺的发展。
与此同时，ASML还宣布与SK海力士签署ESG(环境、社会和公司治理)谅解备忘录，计划在环保、社会责任以及企业治理等方面展开合作。
值得关注的是，上个月初曾有报道称，三星电子计划在未来五年内从ASML采购50台设备，每台设备的价格约为2000亿韩元，总价值可能达到10万亿韩元(约合545亿元人民币)。
三星电子去年6月推出了全球首个采用全栅极(GAA)技术的3纳米代工技术，因此公司一直在积极采购EUV光刻设备，其目标是在明年上半年实现3纳米代工工艺的第二代，到2025年实现2纳米工艺，然后在2027年进一步进入1.4纳米工艺。
正因如此，李在镕董事长去年6月曾访问ASML总部，与首席执行官Peter Bennink就EUV设备采购问题进行了深入讨论，并于去年11月在韩国期间再次与Bennink进行了会晤。考虑到EUV设备的交付周期至少需要一年，这些会议似乎已经取得了实质性的成果。
