【ITBEAR科技资讯】4月24日消息，据外媒报道，台积电在去年12月29日开始商业化生产采用鳍式场效应晶体管架构的3nm制程工艺。虽然比三星电子晚了近半年，但该公司的3nm制程工艺备受业界看好。
台积电CEO魏哲家在一季度的财报分析师电话会议上表示，他们的3nm制程工艺以可观的良品率量产，并且客户对该工艺的需求超过了他们的产能。预计今年的产能将得到充分利用。从功耗、性能和面积及晶体管技术来看，台积电的3nm制程工艺是目前最先进的半导体技术之一。他们预计客户对该工艺的强劲需求将持续多年，他们对3nm制程工艺家族成为另一个大而持久的工艺节点充满信心。
据ITBEAR科技资讯了解，魏哲家透露，台积电的3nm制程工艺预计从三季度开始就将为他们带来可观的营收。该工艺在台积电今年全年晶圆代工业务收入中所占的比例预计为中等个位数。此外，台积电也将加快在5nm和3nm工艺的扩建计划，以满足未来市场的需求。
